CVD管式爐主要用途陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理、高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火等。

 

CVD管式爐詳細(xì)介紹:

 

    1、CVD管式爐爐體采用雙層爐殼結(jié)構(gòu)，雙層爐殼之間裝有風(fēng)機(jī)，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低。

 

    2、爐管采用99高純剛玉管、兩端用不銹鋼304高真空法蘭密封。

 

    3、爐膛材料采用的進(jìn)口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節(jié)能50%，加熱元件采用硅鉬棒。

 

    4、電爐溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統(tǒng)溫度顯示精度為1℃，溫場(chǎng)穩(wěn)定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意設(shè)置。

 

    5、真空度可以達(dá)到10Pa，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火用的理想產(chǎn)品。